该标样为搭载在金网上的高取向生长的超薄单晶金箔。金箔是利用外延生长技术制备的，其晶面间距为0.102nm，0.143nm，0.204nm。它可以对TEM的分辨率、成像质量、放大倍率、和高倍下的稳定性参数指标进行校正和检测。